XAU光譜分析儀是一款設(shè)計結(jié)構(gòu)緊湊，模塊精密化程度*的光譜分析儀，采用了下照式C型腔體設(shè)計，是一款一機(jī)多用型光譜儀。

應(yīng)用核心EFP算法和微光聚集技術(shù)，既保留了專用測厚儀檢測微小樣品和凹槽的性能，又可滿足微區(qū)RoHS檢測及成分分析。

被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用。

產(chǎn)品優(yōu)勢：

• 微小樣品檢測：最小測量面積0.03mm2（加長測量時間可小至0.01mm2）

• 變焦裝置算法：可改變測量距離測量凹凸異形樣品，變焦距離可達(dá)0-30mm

• 自主研發(fā)的EFP算法：Li（3）-U（92）元素的涂鍍層，多層多元素，甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測量

• *解譜技術(shù)：減少能量相近元素的干擾，降低檢出限

• 高性能探測器：SDD硅漂移窗口面積25/50mm2探測器

• 光路系統(tǒng)：微焦加強(qiáng)型射線管搭配聚焦、光路交換裝置

應(yīng)用領(lǐng)域：

廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)、新能源行業(yè)、5G通訊、五金建材、航天航空、環(huán)保行業(yè)、汽車行業(yè)、貴金屬檢測、精密電子、電鍍行業(yè)等多種領(lǐng)域

多元迭代EFP核心算法（ZL號：2017SR567637）

專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上，計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法，結(jié)合*光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)，只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子，可測試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應(yīng)用：如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂鍍層應(yīng)用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應(yīng)用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應(yīng)用：如NiP/Fe，通過EFP算法，在計算鎳磷鍍層厚度的同時，還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。

重復(fù)鍍層應(yīng)用：不同層有相同元素，也可精準(zhǔn)測量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，第一層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。

選擇一六儀器的四大理由：

1.一機(jī)多用，無損檢測

2.最小測量面積0.002mm2

3.可檢測凹槽0-30mm的異形件

4.輕元素，重復(fù)鍍層，同種元素不同層亦可檢測

真空金屬鍍層厚度測試儀

儀器配置

開放式樣品腔 
精密二維移動樣品平臺，探測器和X光管上下可動，實現(xiàn)三維移動 
雙激光定位裝置 
鉛玻璃屏蔽罩 
Si-Pin探測器 
信號檢測電子電路 
高低壓電源 
X光管 
高度傳感器 
保護(hù)傳感器 
計算機(jī)及噴墨打印機(jī) 性能優(yōu)勢滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測試需求 
φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測試點的需求 
高精度移動平臺可精確定位測試點，重復(fù)定位精度小于0.005mm
采用高度定位激光，可自動定位測試高度 
定位激光確定定位光斑，確保測試點與光斑對齊 
鼠標(biāo)可控制移動平臺，鼠標(biāo)點擊的位置就是被測點 
高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn) 
良好的射線屏蔽作用 
測試口高度敏感性傳感器保護(hù)
技術(shù)指標(biāo)
真空金屬鍍層厚度測試儀檢出限：可達(dá)2ppm，*薄可測試0.005μm元素分析范圍：硫（S）～ 鈾（U） 
同時檢測元素：*多24個元素，5層鍍層 
分析含量：2ppm～99.9%
鍍層厚度：50μm以內(nèi)（每種材料有所不同） 
任意多個可選擇的分析和識別模型 
相互獨立的基體效應(yīng)校正模型 
多變量非線性回收程序 
重復(fù)性：可達(dá)0.1%
穩(wěn)定性：可達(dá)0.1%
操作環(huán)境溫度：15℃～30℃ 
電源：交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源 
外觀尺寸： 576（W）×495（D）×545（H）mm 
重量：90kg